耐真空ガス噴霧装置

簡単な説明:

1. 装置の用途 この装置は主に、ガス保護環境または一般的な空気環境下で金属または金属合金を溶解した後、噴霧室で金属粉末または顆粒を製造するために使用されます。真空タイプのガスアトマイズ装置と比較して、反真空ガスアトマイズ装置は総価格が安く、ランニングコストが低いという利点があり、金属粉末の酸素含有量に対する高度な制御要件なしで金属粉末の製造に広く使用されています。


製品の詳細

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1. 装置の適用

この装置は主に、ガス保護環境または一般的な空気環境下で金属または金属合金を溶解した後、噴霧室で金属粉末または顆粒を製造するために使用されます。

真空式ガスアトマイズ装置と比較して、反真空ガスアトマイズ装置は総価格が安く、ランニングコストが低いという利点があり、金属粉末の酸素含有量増加に対する高度な制御要件を必要とせずに金属粉末の製造に広く使用されています。

2. 設備能力

30KG-1000KG/バッチを選択できます。

3. 機器カバーエリア

長さ*幅*高さ: 6M*6M*6-8M。


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